三星和LG将用ALD技术产柔性屏 延长使用寿命
时间：2025-04-14 04:27:36 来源：深入骨髓网 作者：知识 阅读：838次
三星显示器公司与LG Display准备在柔性OLED薄膜封装过程中采用ALD(原子层沉积)技术，星和两家公司已经与合作伙伴合作，将用D技在内部采购并验证ALD设备。术产如果采用ALD技术，柔性就可以更好保护有机材料，屏延减少氧、长使水的用寿影响，从而提高柔性OLED面板的星和寿命和性能。
据产业人士透露，将用D技三星显示器和LG Display正准备在柔性OLED生产流程中采用ALD技术。术产Jusung Engineering、柔性WONIK IPS、屏延AP System和TES拥有ALD技术和设备。长使LG Display已经完成对ALD的用寿研究，准备将它用于柔性OLED生产;三星显示器也在加速部署ALD技术。星和
两家公司完成了ALD技术的研发，它们正在考虑实际引入ALD的可能性，因为它们正在向柔性OLED生产设施投资。企业的研发已经完成，开始进入商用阶段。
OLED是有机材料，它存在缺陷，比如，OLED对水和氧的防护比较弱。为了保护OLED，制造商会在OLED之上铺上许多层的薄膜，减少水和氧的侵蚀。具体铺多少层?不同的制造商有不同的标准，一般而言，制造企业会用一种名叫“Vitex”的方法在OLED之上铺盖有机薄膜和无机薄膜，交叠进行，各自3-5层。。
在无机薄膜封装过程中，企业一般使用PECVD(等离子体增强化学汽相沉积)、溅射、ALD技术;如果是有机薄膜沉淀，使用的是Kateeva的喷墨打印技术。为了生成无机薄膜，三星和LG采用PECVD技术。
为什么两家企业现在才考虑用ALD技术替代PECVD?因为寿命和性能对于柔性OLED来说越来越重要。另外，柔性OLED屏幕的生产力下降，需求增长也是一个问题。
ALD技术是CVD(化学蒸汽沉积)技术的一种，它交替喷射原材料(包括ALD金属和反应气体)从而形成原子薄膜层。MLD技术(分子层沉积)可以形成有机材料分子层，两者结合就可以形成多层屏障，保护OLED，使之免受水和氧的侵蚀，即使在低温下也可以形成。
在屏幕生产过程中引进ALD技术有一些优势，例如，它可以减少杂质，形成厚度相同的薄膜。ALD技术可以涂上高质量薄膜层，保护效果明显增强。如果无机薄膜的厚度不同(只有几纳米的差别)，层层叠加，总薄膜厚度、渗水率就会受到影响。除此之外，与现有的CVD方法相比，ALD技术还可以采用各种不同的薄膜，这也是它的一个优势。
半导体产业追求精细工艺，ALD成为它们追捧的对象。不过显示屏产业一直对ALD保持犹豫态度，因为它的成本比PECVD高，大面积使用也存在一定的问题，沉积速度不够快。最近一段时间问题已经部分解决，正因如此ALD才会真正投入使用。
一名产业代表称：“虽然ALD和PECVD不可同日而语，但是ALD的沉积速度比PECVD慢了大约10倍。因为沉积速度慢，生产效率也很低，大面积应用有困难，这些都是主要的障碍，之所以真正引进ALD技术，主是是考虑到它可以形成更薄的高质量薄膜。”
据产业人士透露，将用D技三星显示器和LG Display正准备在柔性OLED生产流程中采用ALD技术。术产Jusung Engineering、柔性WONIK IPS、屏延AP System和TES拥有ALD技术和设备。长使LG Display已经完成对ALD的用寿研究，准备将它用于柔性OLED生产;三星显示器也在加速部署ALD技术。星和
两家公司完成了ALD技术的研发，它们正在考虑实际引入ALD的可能性，因为它们正在向柔性OLED生产设施投资。企业的研发已经完成，开始进入商用阶段。
OLED是有机材料，它存在缺陷，比如，OLED对水和氧的防护比较弱。为了保护OLED，制造商会在OLED之上铺上许多层的薄膜，减少水和氧的侵蚀。具体铺多少层?不同的制造商有不同的标准，一般而言，制造企业会用一种名叫“Vitex”的方法在OLED之上铺盖有机薄膜和无机薄膜，交叠进行，各自3-5层。。
在无机薄膜封装过程中，企业一般使用PECVD(等离子体增强化学汽相沉积)、溅射、ALD技术;如果是有机薄膜沉淀，使用的是Kateeva的喷墨打印技术。为了生成无机薄膜，三星和LG采用PECVD技术。
为什么两家企业现在才考虑用ALD技术替代PECVD?因为寿命和性能对于柔性OLED来说越来越重要。另外，柔性OLED屏幕的生产力下降，需求增长也是一个问题。
ALD技术是CVD(化学蒸汽沉积)技术的一种，它交替喷射原材料(包括ALD金属和反应气体)从而形成原子薄膜层。MLD技术(分子层沉积)可以形成有机材料分子层，两者结合就可以形成多层屏障，保护OLED，使之免受水和氧的侵蚀，即使在低温下也可以形成。
在屏幕生产过程中引进ALD技术有一些优势，例如，它可以减少杂质，形成厚度相同的薄膜。ALD技术可以涂上高质量薄膜层，保护效果明显增强。如果无机薄膜的厚度不同(只有几纳米的差别)，层层叠加，总薄膜厚度、渗水率就会受到影响。除此之外，与现有的CVD方法相比，ALD技术还可以采用各种不同的薄膜，这也是它的一个优势。
半导体产业追求精细工艺，ALD成为它们追捧的对象。不过显示屏产业一直对ALD保持犹豫态度，因为它的成本比PECVD高，大面积使用也存在一定的问题，沉积速度不够快。最近一段时间问题已经部分解决，正因如此ALD才会真正投入使用。
一名产业代表称：“虽然ALD和PECVD不可同日而语，但是ALD的沉积速度比PECVD慢了大约10倍。因为沉积速度慢，生产效率也很低，大面积应用有困难，这些都是主要的障碍，之所以真正引进ALD技术，主是是考虑到它可以形成更薄的高质量薄膜。”
(责任编辑：知识)
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